錯体物性化学研究室

実験設備(合成用)                          写真をクリックすると拡大できます。

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マイクロ波合成装置 (Biotage Initiator ver. 2.5, 2012)

  • 画像I2-1反応溶液にマイクロ波を照射して、反応不活性な化合物の合成等に使用します。種々の溶媒を 40〜250 ℃ の温度範囲、 0〜2 MPa の圧力範囲において、2〜5 ℃/sec で高温加熱できます。高温加熱が難しい低極性溶液にも使えます。もっと活躍して欲しい装置の1つです。



精密恒温器と耐圧容器 (ヤマト科学 DH411, 2012)

  • 画像I2-1高温・高圧条件下で化合物を合成するソルボサーマル合成に使います。360 ℃ まで加熱可能。耐圧容器には、三愛科学の 25 および 50 mL の高圧反応分解容器を使用しています(最高使用温度 230 ℃、最高使用耐圧 15 MPa)。加熱と冷却時間をプログラムして、配位高分子や準安定な化合物などを合成します。


リサイクル分取 HPLC (日本分析工業 LC-9225NEXT, 2011)

  • 画像I2-1有機化合物の分取に使います。簡単な操作で、長いカラムを使用した場合と同等の分離ができます。使用できる溶媒が限られるのが難点ですが、ツボにはまれば、かなり役立ちます。




小型恒温振とう培養機 (TAITEC BR-23FP, 2012)

  • 画像I2-1リポソーム系のサンプルの合成に使います。15〜60 ℃ の温度範囲で、20〜300 r/min でサンプルをプログラム振とうできます。






微量高速冷却遠心機 (TOMY MX-307, 2012)

  • 画像I2-1リポソーム系のサンプルやメゾ・ ナノ粒子の合成に使います。最高回転数 16,000 rpm、最大遠心加速度 21,130 G でサンプルを遠心分離できます。








クールインキュベーター (エル・エム・エス CN-25C, 2006)

  • 画像I2-1単結晶の育成やリポソーム系のサンプルの合成に使います。ペルチェ冷却方式で 3〜45 ℃ の温度範囲で使用できます。コムプレッサーを使っていないので振動が少なく、恒温条件下の単結晶育成に向いています。




凍結乾燥器 (EYELA FDU-2200, 2012)

  • 画像I2-1凍結乾燥 (freezed dry) サンプルの作成に使います。-80 ℃の低温トラップで乾燥することで、含水率の低い、乾燥状態の良いサンプルが得られます。特に、リポソーム系のサンプルを復元可能な状態で乾燥するのに有効です。フラスコ用の4ポート多岐管と凍結乾燥瓶を装着しています。





真空ライン (コスモスビード 2配管4連式, 2010)

  • 画像I2-1化合物の嫌気下合成や脱気、乾燥に使います。各実験室に計6台設置しています。






エバポレーター+真空制御ユニット (EYELA N-1200BV-W + NVC-2200B, 2010)

  • 画像I2-1試料溶液の濃縮や乾固に使います。真空制御装置を組合わせることで、沸点検出、勾配制御、圧力設定を自動で行えます。試料に合せた真空制御による濃縮ができて便利です。







ガラス器具類

  • 画像I2-1サンプル合成用に、各種ガラス器具を揃えています。








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